IMEC współpracuje z Mitsui Chemical w celu promowania komercjalizacji folii fotomaskowych nanorurki EUV
Belgijskie Centrum Badań Mikroelektroniki (IMEC) ogłosiło w grudniu, że podpisało strategiczną umowę o współpracy z Mitsui Chemical of Japan w celu wspólnie promowania komercjalizacji technologii Film Photomask Nanotube EUV Nanotube (Pellicle).Zgodnie z umową Mitsui Chemical zintegruje technologię opartą na cząsteczkach Nanoturka węglowego IMEC (CNT) z technologią cienkiej folii Mitsui Chemical, której celem jest wprowadzenie tego nowego produktu do systemów EUV o dużej mocy w latach 2025–2026.
Zgodnie z oficjalnym wprowadzeniem IMEC, pyłek pyłkowy Photomask (Pellicle) jest wykorzystywany do ochrony czystości fotomasków, wymagającą wysokiej transmitancji i długiej żywotności.Cząstki nanorurki węglowej (CNT) mogą poprawić wydajność ultra-cienkich filmów podczas ekspozycji EUV (ekstremalne ultrafiolet), z wyjątkowo wysoką transmitancją EUV (≥ 94%), wyjątkowo niskim odbiciem EUV i minimalnym uderzeniem optycznym, z których wszystkie są kluczowymi cechamiw celu osiągnięcia wysokiej wydajności produkcyjnej w zaawansowanej produkcji półprzewodników.Ponadto cząsteczki nanorurki węglowej mogą wytrzymać moc EUV o wartości ponad 1 kW, spełniając w ten sposób potrzeby przyszłych maszyn litograficznych nowej generacji.Technologia ta wzbudziła duże zainteresowanie branżą, więc obie strony wspólnie opracowują cząstki nanorurki węglowej klasy przemysłowej, aby zaspokoić popyt rynkowy.
Zasada pellicle folika odpuszcza z Mitsui Chemical
Steven Scheer, starszy wiceprezes IMEC, stwierdził, że organizacja od dawna wspierała ekosystem półprzewodnikowy w rozwoju mapy drogowej technologii litografii.Od 2015 r. IMEC współpracuje z łańcuchem dostaw w celu opracowania innowacyjnych projektów cienkich filmów opartych na nanorurkach węglowych (CNT) w zaawansowanej technologii litografii EUV.Powiedział: „Uważamy, że głębsze zrozumienie metrologii, charakterystyki, właściwości i właściwości filmów nanorurek węglowych przyspieszy rozwój produktów chemicznych Mitsui. Mamy nadzieję wspólnie wprowadzić cząstki nanorurki węglowej do produkcji przyszłych pokoleń technologii litografii EUV.. "
Steven Scheer, starszy wiceprezes IMEC, stwierdził, że organizacja od dawna wspierała ekosystem półprzewodnikowy w rozwoju mapy drogowej technologii litografii.Od 2015 r. IMEC współpracuje z łańcuchem dostaw w celu opracowania innowacyjnych projektów cienkich filmów opartych na nanorurkach węglowych (CNT) w zaawansowanej technologii litografii EUV.Powiedział: „Uważamy, że głębsze zrozumienie metrologii, charakterystyki, właściwości i właściwości filmów nanorurek węglowych przyspieszy rozwój produktów chemicznych Mitsui. Mamy nadzieję wspólnie wprowadzić cząstki nanorurki węglowej do produkcji przyszłych pokoleń technologii litografii EUV.. "
Według mapy drogowej w branży litografii nowa generacja systemów litografii EUV 0,33NA (apertura numeryczna) będzie obsługiwać źródła światła o poziomie mocy 600 W lub wyższej od 2025 do 2026 r. W tym czasie nowe filmy odporne na pyłki fotograficzne zostaną również skomercjalizowane, które można wykorzystać do masowej produkcji układów z procesami 2nm i poniżej.